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突破PLCDCS多通道模擬輸入通道間隔離、高密度和EMI高輻射的設(shè)計(jì)障礙
發(fā)布時(shí)間:2018-04-10 來源:Van Yang, Songtao Mu, 和 Derrick Hartmann 責(zé)任編輯:wenwei
【導(dǎo)讀】本文將簡(jiǎn)要討論在過程控制中模擬量輸入模塊中的隔離問題以及其傳統(tǒng)解決方法,然后將提出一種替代性的高密度、易于設(shè)計(jì)的通道間隔離模擬輸入模塊的完整解決方案。測(cè)試結(jié)果表明,這個(gè)16通道、2.5 kV rms通道間隔離演示模塊可以輕松通過EN55022 Class B 和Class A的IEC輻射標(biāo)準(zhǔn)。
在高端工廠自動(dòng)化應(yīng)用中(如油氣廠和電廠),常會(huì)要求多路采集通道與通道之間進(jìn)行隔離,其中高耐壓、小尺寸、低EMI、高可靠性和低成本等要求在通道間隔離設(shè)計(jì)中別具挑戰(zhàn)性。通常目前現(xiàn)有成熟方案,標(biāo)準(zhǔn)模塊實(shí)現(xiàn)的通道密度往往僅限于四個(gè)通道或八個(gè)通道,通道間隔離只能承受數(shù)百伏特耐壓。
過程控制模擬量輸入模塊中的隔離
電氣隔離原理是以物理和電氣方式分開兩個(gè)電路,使二者之間無直接傳導(dǎo)路徑,但仍然可以交換數(shù)據(jù)和電源。這通常是通過變壓器、光耦合器或電容來實(shí)現(xiàn)的。隔離用于保護(hù)電路和人,隔斷接地環(huán)路,提高共模電壓和噪聲抑制性能。
一般地,過程控制的輸入要么采用組塊隔離,要么采用通道間隔離(見圖1)。對(duì)于組塊隔離,多路輸入通道組合在一起以共用一組隔離器,包括電源隔離和信號(hào)隔離。與通道間隔離相比,這樣可以節(jié)省成本,但限制了組中通道間的共模耐壓,這 意味著這些通道和設(shè)備將被建議安裝在相同區(qū)域中。通道間隔離 (如圖1右側(cè)所示)相比前者在適用穩(wěn)定性等方面會(huì)大大改善。 話雖如此,每通道卻需要更高的成本,因此工廠設(shè)計(jì)人員必須仔細(xì)評(píng)估和權(quán)衡。
圖1. 組隔離和通道間隔離
在通道間隔離設(shè)計(jì)中,每個(gè)通道都需要專用的電源隔離和信號(hào)隔離。隔離是限制輸入模塊通道密度、EMI、成本和可靠性的主要因素之一。在之前的新設(shè)計(jì)中,每個(gè)通道用數(shù)字隔離器來實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)隔離,典型的數(shù)字隔離器(如ADuM141E)有四個(gè)隔離數(shù)據(jù)通道,采用16引腳SOIC (6.2 mm × 10 mm)封裝。但是,每個(gè)通道仍然需要電 源隔離。接下來,我們就來討論一下三種傳統(tǒng)的電源隔離方法:多抽頭變壓器、推挽式設(shè)計(jì)和隔離式DC-DC模塊的優(yōu)缺點(diǎn)。
圖2所示為帶有一個(gè)多抽頭變壓器的反激式隔離DC-DC架構(gòu):一個(gè)反激式轉(zhuǎn)換器驅(qū)動(dòng)變壓器,在抽頭上產(chǎn)生多個(gè)輸出。這是一種成熟的電源架構(gòu),但在過程控制應(yīng)用中有六大劣勢(shì):
1.變壓器需要具有多個(gè)抽頭和降低EMI的屏蔽層。在小尺寸封裝中很難實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)并保證足夠的可靠性。
2.反饋控制環(huán)路只能使用一路通道,意味著只能對(duì)其他通道進(jìn)行更為松散的調(diào)控。為了確保工作的可靠性,就需要對(duì)此進(jìn)行仔細(xì)的評(píng)估。
3.通道密度很大程度上受到具體變壓器放置方案的限制。對(duì)于來自各個(gè)抽頭輸出端的電源,變壓器置于模擬輸入模塊的中央,每個(gè)輸入通道圍繞變壓器呈扇出形排列,將模擬輸入模塊卡通道限制為四個(gè)或八個(gè)。
4.來自其中一路通道的干擾噪聲可能通過變壓器抽頭之間的耦合擴(kuò)散到其他通道中。
5.隔離所能夠承受耐壓等級(jí)。多抽頭變壓器只能實(shí)現(xiàn)幾百伏特的通道間隔離,除非其采用特殊絕緣材料或設(shè)計(jì),然而那樣做會(huì)大幅增加變壓器成本。
6.定制變壓器取得UL/CSA認(rèn)證的成本很高。
圖2. 多抽頭變壓器電源隔離設(shè)計(jì)
第二種方法是每個(gè)通道使用獨(dú)立的變壓器,并用推挽法來隔離各個(gè)通道。這種方法不使用反饋,而用適當(dāng)調(diào)節(jié)的電源(如7 V)來驅(qū)動(dòng)各個(gè)變壓器,然后用LDO在副邊做進(jìn)一步調(diào)節(jié)。這種方法是可行的,因?yàn)楦边吷系碾娏飨南鄬?duì)較低,使得充分調(diào)節(jié)成為可能。
這種方法的不足之一是需要進(jìn)行預(yù)調(diào)節(jié),每個(gè)通道還要使用額外的元件。所選變壓器必須符合要求的隔離額定值。預(yù)調(diào)節(jié)、變壓器、開關(guān)和每個(gè)通道需要的LDO會(huì)占用電路板空間,增加成本。同時(shí)還需要進(jìn)行大量評(píng)估,確保各個(gè)條件下都已達(dá)到充分調(diào)節(jié)。
圖3. 推挽式隔離設(shè)計(jì)
使用經(jīng)UL/CSA認(rèn)證的表貼式隔離DC-DC模塊可以大幅簡(jiǎn)化隔離式電源設(shè)計(jì)的復(fù)雜性,并使隔離耐壓電壓等級(jí)有一定程度提升。即便如此,其成本仍然較高,而且體積并不能有效減少,并且一般只能通過EN55022 A類標(biāo)準(zhǔn)。這些模塊也可能存在傳導(dǎo)性電磁干擾問題,因?yàn)槎鄶?shù)模塊的PWM頻率為降低電磁輻射干擾都低于1 MHz。同 時(shí),多數(shù)過程控制模擬量輸入模塊的模擬側(cè)電流消耗不到10 mA, 遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于市場(chǎng)上的多數(shù)隔離式電源模塊標(biāo)稱值。
上面討論的三種傳統(tǒng)方法都難以同時(shí)達(dá)到隔離性能和成本要求。 這些方法還要求每個(gè)通道采用獨(dú)立的數(shù)據(jù)隔離器,進(jìn)一步增加了空間要求和成本。如果電源隔離可以作為數(shù)據(jù)隔離器的一部分, 則結(jié)果會(huì)怎樣?事實(shí)上這一點(diǎn)可以做到,并且也已經(jīng)成為現(xiàn)實(shí)。
ADI i Coupler®技術(shù)和iso Power®技術(shù)廣泛用于工業(yè)和汽車市場(chǎng),這兩種技術(shù)可以集成到單個(gè)封裝中。以ADuM5411 為例(其功能框圖如圖4 所示),該器件采用7.8 mm × 8.2 mm 24引腳TSSOP封裝,包括完整的電源隔離和四個(gè)數(shù)據(jù)隔離通道。其輸出功率高達(dá)150 mW,足以滿 足模擬輸入信號(hào)調(diào)理和數(shù)字化的要求,并能通過2500 V rms UL1577 隔離標(biāo)準(zhǔn)。另外,CMTI(共模瞬變抗擾度)大于75 kV/μs,使其成為存在高瞬變電壓和電流的惡劣工業(yè)環(huán)境(如電廠)的理想選擇。
圖4. ADuM5411功能框圖
基于數(shù)據(jù)和電源隔離的高度集成,模擬量輸入模塊設(shè)計(jì)得以大幅 簡(jiǎn)化,同時(shí)還能實(shí)現(xiàn)更高的通道密度;可以在傳統(tǒng)隔離八通道空間里實(shí)現(xiàn)16個(gè)或以上的隔離通道數(shù)量。
我們用這種方案設(shè)計(jì)了一個(gè)16通道的通道間隔離的溫度輸入模塊 (見圖5),并進(jìn)行了EMI相關(guān)的測(cè)試。模塊中的ADuM5411器件為16路溫度輸入通道分別提供隔離電源和數(shù)據(jù)。熱電偶和/或RTD測(cè)量是用高度集成的溫度前端IC(AD7124 或 AD7792)實(shí)施的,比分立式設(shè)計(jì)更加節(jié)省空間。ADP2441 將24 V背板電源轉(zhuǎn)換成3.3 V的低 電壓源用于驅(qū)動(dòng)MCU、觸摸屏和ADuM5411。每個(gè)輸入通道只需要 63.5 mm × 17.9 mm的面積。
圖5. 16通道的通道間隔離溫度輸入模塊功能框圖
ADuM5411的布局設(shè)計(jì)
ADuM5411所用開關(guān)頻率為125 MHz。由于通道數(shù)量較多,所以我 們特別注意,以確保電路板能順利通過EN55022 ClassB的電磁輻 射標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試。
為了盡可能減少輻射,我們采取的原則就是盡量降低功耗、縮短 電流環(huán)路返回路徑,減少共模影響。我們使用了超低功耗集成式 溫度前端IC降,這意味著,隔離現(xiàn)場(chǎng)側(cè)消耗的功率會(huì)非常小,由此達(dá)到減少輻射能量的目的。完全活躍狀態(tài)下AD7124的功耗僅 為0.9 mA。而為了縮短電流返回環(huán)路,我們同時(shí)采用了鐵氧體磁珠和少量的旁路電容。
鐵氧體磁珠是在源頭控制輻射信號(hào)的一種有效方法,因?yàn)樗鼤?huì)形成比PCB走線高得多的阻抗。如圖6所示,鐵氧體磁珠與ADuM5411的引腳串聯(lián)(電源引腳起到主要作用)。鐵氧體磁珠的頻率響應(yīng)是一個(gè)很重要的考慮因素,我們使用的鐵氧體磁珠是 BLM15HD182SN1,其頻率范圍在100 MHz至1 GHz之間的阻抗大于 2 kΩ。鐵氧體磁珠應(yīng)盡量靠近ADuM5411焊盤。VISO路徑上的E9和 GNDISO路徑上的E10上的鐵氧體磁珠是必不可少的。
圖6. ADuM5411原理圖
也可以用耦合電容來提供低阻抗的返回路徑,從而減少輻射。 一種方法是在隔離柵上使用表貼式高壓電容,確保符合爬電距離、電氣間隙和耐受電壓標(biāo)準(zhǔn)。Murata、Vishay等供應(yīng)商均提供此 類電容。受安裝電容帶來的寄生的電感影響,這種方法僅在不 超過200 MHz左右的頻率下有效。為此,一種更有效的技術(shù)是在 ADuM5411下方的PCB電路板內(nèi)構(gòu)建一個(gè)旁路電容。其可以是浮動(dòng)式旁路電容,也可以是重疊式旁路電容,如圖7所示。
圖7. 浮動(dòng)式旁路電容與重疊式旁路電容
浮動(dòng)式旁路電容集成了兩個(gè)串行電容,即C1和C2??傠娙萃ㄟ^公式1計(jì)算。
其中:
ε為PCB絕緣材料的介電常數(shù),F(xiàn)R4材料為4.5。
對(duì)于重疊式旁路電容,其電容通過公式2計(jì)算。
其中:
ε為PCB絕緣材料的介電常數(shù),F(xiàn)R4材料為4 × 10–1 1 F/m。
在材料、面積和距離相同的條件下,浮動(dòng)式旁路電容的總電容值為重疊式旁路電容的一半,但絕緣材料的厚度則增加了一倍。 依據(jù)IEC60950 2.10.6.4,加強(qiáng)絕緣要求內(nèi)層絕緣材料的最低厚度為 0.4 mm (15.74 mil),但基本絕緣無此類要求。由于ADuM5411僅提 供2.5 kV rms的基本隔離,所以,我們選擇了重疊式旁路電容以實(shí)現(xiàn)電容值的最大化。因相同的原因,內(nèi)層的厚度也控制在5 mil。
16通道的通道間溫度輸入模塊PCB采用的是一塊6層的電路板。為了兼顧機(jī)械和EMI性能,頂層和底層的厚度控制為20 mil,內(nèi)層控制為5 mil,如圖8所示。
圖8. 六層PCB堆棧分配
如圖9所示,重疊式旁路電容的各層集成在GND1、SIG、PWR和GND2 中。GND1和PWR上的各層連接至ADuM5411的副邊,SIG和GND2中 的各層連接至ADuM5411的原邊。這意味著,GND1與SIG、SIG與 PWR、PWR與GND2之間共形成了三個(gè)并行的旁路電容。重疊區(qū)寬 4.5 mm,長17 mm,即總旁路電容為72 pF。
圖9. ADuM5411區(qū)域的六層PCB布局
基于EN55022規(guī)格的測(cè)試結(jié)果
根據(jù)EN55022規(guī)范在10m條件下執(zhí)行兩組EMI測(cè)試。對(duì)于第一個(gè)測(cè) 試,帶stitching電容的電路板使用情況如圖10所示。圖11顯示了測(cè)試 結(jié)果,該測(cè)試通過了EN55022 ClassB的標(biāo)準(zhǔn),裕量約為11.59 dB。對(duì)于第二個(gè)測(cè)試,使用了不帶stitching電容的電路板,而將3kV、150pF 外部高壓電容KEMET C1812C102KHRACTU安裝在電路板上。圖12顯示 了測(cè)試結(jié)果——通過了EN55022 Class B的標(biāo)準(zhǔn),裕量為0.82 dB,距 離Class A的閾值還是有足夠多的余量。
圖10. PCB中內(nèi)置無安規(guī)電容的旁路電容
圖11. EN55022 B類測(cè)試結(jié)果(PCB中內(nèi)置旁路電容)
圖12. EN55022 B類測(cè)試結(jié)果(無旁路電容,有安規(guī)電容PCB)
測(cè)試結(jié)果證明,相比高壓電容,IC下的stitching電容是更有效的去耦合方法。
結(jié)語
通道間隔離往往被視為高端過程控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)中的一項(xiàng)挑戰(zhàn)。相 比傳統(tǒng)數(shù)字和電源分別隔離的方法,ADI的isoPower技術(shù)和iCoupler 技術(shù)可以大幅提高通道密度,還大大簡(jiǎn)化了設(shè)計(jì)工作,可以提高通道穩(wěn)定性和可靠性。利用PCB中內(nèi)置的stitching電容或安裝在PCB旁邊的高壓電容,可以輕松地控制EMI輻射以便通過EN55022 B類或A類標(biāo)準(zhǔn),這是一項(xiàng)技術(shù)上的突破。
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