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保護(hù)IGBT和MOSFET免受ESD損壞

發(fā)布時(shí)間:2022-06-13 來(lái)源:英飛凌 責(zé)任編輯:wenwei

【導(dǎo)讀】功率MOSFET用戶都非常熟悉“靜電敏感器件”警告標(biāo)志。然而,越熟悉越容易大意。從統(tǒng)計(jì)的角度來(lái)看,單個(gè)MOSFET不太可能被靜電放電(ESD)損壞。然而,在處理成千上萬(wàn)個(gè)MOSFET時(shí),極小的故障都可能帶來(lái)極大的影響。


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一個(gè)有效的ESD防控方案必定是詳盡而具體的。但它的基本概念可概括為下列10條:


1. 確保使用封閉的導(dǎo)電容器儲(chǔ)存并運(yùn)輸MOSFET。

2. 僅在靜電控制工作站接地后才從容器中移走M(jìn)OSFET。

3. 處理功率MOSFET的工作人員應(yīng)穿戴防靜電服,并始終接地。

4. 地板應(yīng)鋪設(shè)接地的防靜電地毯或進(jìn)行靜電耗散處理。

5. 桌子應(yīng)鋪設(shè)接地的靜電耗散桌布。

6. 避免使用任何類型的絕緣材料。

7. 僅在一次性應(yīng)用中使用防靜電材料。

8. 務(wù)必使用接地烙鐵安裝MOSFET。

9. 僅在靜電控制工作站測(cè)試MOSFET。

10. 同時(shí)采取上述所有防護(hù)措施,并確保工作人員經(jīng)過(guò)培訓(xùn)。


什么是ESD?


ESD是靜電放電。靜電是指一個(gè)表面相對(duì)于另一個(gè)表面或地產(chǎn)生的電子過(guò)量或不足。電子過(guò)量的表面帶負(fù)電,電子不足的表面帶正電。靜電的電壓(伏特)和電荷(庫(kù)倫)是可測(cè)量的。


物體上的靜電荷會(huì)導(dǎo)致電子分布的不平衡。當(dāng)電子從一個(gè)物體向另一個(gè)電壓電勢(shì)不同的物體轉(zhuǎn)移而嘗試重新建立平衡時(shí),發(fā)生靜電放電(ESD)。靜電敏感器件(如功率MOSFET)成為放電路徑的一部分,或者位于靜電場(chǎng)范圍內(nèi)時(shí),它可能被永久性損壞。


靜電的產(chǎn)生


摩擦起電是最常見(jiàn)的靜電起電方式。摩擦兩種材料,即,兩種材料接觸后再分離會(huì)產(chǎn)生摩擦起電。兩個(gè)物體互相摩擦?xí)r,因?yàn)椴煌矬w的原子核束縛核外電子的本領(lǐng)不同,所以其中必定有一個(gè)物體失去一些電子,另一個(gè)物體得到多余的電子。異質(zhì)材料,尤其是表面電阻率高的材料對(duì)摩擦起電特別敏感。


感應(yīng)起電是另外一種靜電起電方式。當(dāng)一個(gè)物體接近帶高強(qiáng)電荷的物體或高能量的ESD時(shí)發(fā)生感應(yīng)起電。


ESD對(duì)功率MOSFET的危害


故障模式


功率MOSFET最大的運(yùn)行優(yōu)勢(shì)之一是:當(dāng)達(dá)到ESD超高輸入電阻時(shí)(典型值> 4 x 109 ohms),它會(huì)關(guān)閉。功率MOSFET的柵極可以視為一個(gè)低電壓(HEXFET器件電壓為+ 20V)低泄露的電容。如圖1所示,電容器極板主要由硅柵極和源極金屬化形成。電容器介質(zhì)是氧化硅柵極絕緣。


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圖 1.HEXFET 基本結(jié)構(gòu)


當(dāng)柵源電壓高到跨過(guò)柵介質(zhì)時(shí),MOSFET發(fā)生ESD損壞。此時(shí)柵氧化層上的微孔被燒壞,器件永久性損壞。如同任何電容,必須給功率MOSFET的柵極充電以便達(dá)到特定的電壓。更大的器件有更大的電容,電壓每上升一伏也需要更多的電荷,因此比較小的MOSFET更不容易遭受ESD損壞。同樣,靜電放電一般不會(huì)產(chǎn)生突發(fā)性失效,直至柵源電壓超出額定最大值的2到3倍。


圖2a是典型的ESD損傷場(chǎng)景。這個(gè)場(chǎng)景是將人體模型(HBM)充電到700V,然后再放電到器件的柵極所產(chǎn)生的損傷。在將裸片表層從多晶硅剝離后,用掃描電子顯微鏡放大5000倍拍攝了該照片。圖2b顯示在剝離之前,裸片表面無(wú)任何可視性損傷。圖2a的實(shí)際損傷直徑僅為8微米。ESD損傷表現(xiàn)出的電氣癥狀是柵極和源極之間的低電阻或齊納效應(yīng),施加的電壓小于±20伏。


造成ESD損傷所需的電壓至少為1000 V(具體大小取決于芯片尺寸)。這是由于承載電荷的體二極管的電容大大低于MOSFET的Ciss,因此當(dāng)電荷轉(zhuǎn)移時(shí),所產(chǎn)生的電壓就會(huì)遠(yuǎn)低于原始電壓。


靜電場(chǎng)也會(huì)損壞功率MOSFET。雖然故障模式是ESD,但MOSFET的損壞是因?yàn)閷ET的未保護(hù)柵極放置在電暈放電路徑中引起的。電暈放電由帶正或負(fù)電荷的表面向空氣中的小離子分子放電而(CO2+, H+, O2-, Oh-)引起。


ESD是問(wèn)題嗎?


如前所述,在處理少數(shù)MOSFET時(shí),ESD可能不是一個(gè)問(wèn)題。此時(shí)也可能產(chǎn)生極少數(shù)無(wú)法解釋的故障。當(dāng)處理大量的MOSFET時(shí),尤其質(zhì)量是第一要素時(shí),ESD就成為一個(gè)問(wèn)題。


ESD控制的材料和方法


直接保護(hù)法


保護(hù)功率MOSFET不受ESD或其它任何過(guò)度的柵極電壓損傷,首要目標(biāo)是保持柵源電壓不超出最大規(guī)定值(HEXFET為±20)。這一點(diǎn)同時(shí)適用于電路內(nèi)部和外部。


直接保護(hù)MOSFET的方法包括縮短?hào)艠O和源極間的距離,或者是在柵源之間施加一個(gè)齊納保護(hù)。直接保護(hù)法在內(nèi)部電路和少數(shù)器件的應(yīng)用中有效,但在生產(chǎn)環(huán)節(jié)由于涉及了大量的MOSFET就不是很實(shí)際。


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圖 2a.典型ESD故障


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圖 2b.剝離前,ESD損傷的器件在低放大倍數(shù)下的效果圖


功率MOSFET靜電保護(hù)的基本概念是盡可能防止靜電積聚,并快速有效地去除已有電荷。


環(huán)境中的材料可以幫助或阻礙靜電控制。這些材料可根據(jù)表面電阻率劃分成4類:絕緣(>1014 ohms/Sq.*),防靜電(109-1014 ohms/Sq.*),靜電耗散(105-109 ohms/Sq.*),和導(dǎo)電(理想狀態(tài)下,為了保護(hù)HEXFET,在設(shè)施中應(yīng)該只有接地的導(dǎo)電體。)此外,所有參與生產(chǎn)的人員都應(yīng)硬接地。不幸的是,參與生產(chǎn)的這些人員極易受到故障電氣設(shè)備的電擊。同樣,長(zhǎng)距離移動(dòng)時(shí),也很難保持接地。因此,應(yīng)根據(jù)現(xiàn)實(shí)情況選擇保護(hù)材料和方法。


絕緣材料


由于這類材料易于儲(chǔ)存靜電電荷并難以放電,如果可能的話,功率MOSFET及其整體環(huán)境需遠(yuǎn)離該類材料。由于絕緣體不導(dǎo)電,因此絕緣體與地之間的電氣連接無(wú)法控制靜電電荷。


絕緣材料包括:聚乙烯(普通塑料袋材質(zhì)),聚苯乙烯( 泡沫塑料杯和打包用塑料泡沫),邁拉,硬質(zhì)橡膠,乙烯基,云母陶瓷,多數(shù)其它塑料,以及一些有機(jī)材料。


必須在功率MOSFET處理設(shè)施中使用塑料產(chǎn)品時(shí),只能使用浸漬了導(dǎo)電材料和/或用防靜電化合物處理過(guò)的物品。


防靜電材料


防靜電材料阻礙摩擦電荷的生成,但是無(wú)法屏蔽電場(chǎng)。


電暈放電會(huì)直接穿過(guò)防靜電外殼,可能破壞內(nèi)部任意MOSFET。


由于這類材料表面電阻率極高,因此接地時(shí)并不能有效地移除電荷。


一些塑料絕緣體可以用抗靜電劑處理??轨o電劑化學(xué)地降低它們對(duì)摩擦生電的敏感性并降低它們的表面電阻率。大多數(shù)抗靜電劑在相對(duì)濕度(RH)高時(shí)才有效。


因此,處理功率MOSFET的設(shè)施的相對(duì)濕度(RH)應(yīng)保持在40%以上。此外,抗靜電劑在一段時(shí)間后會(huì)漸漸磨損,并且大多數(shù)還使用了對(duì)金屬具有腐蝕性的反應(yīng)性離子化學(xué)品。防靜電塑料(如Dl P和TO-3管和運(yùn)輸包裝材料)應(yīng)限于短期的一次性使用。


備注:尺寸不影響表面電阻率。


IGBT新品 2022 


近日,英飛凌推出了采用TO247PLUS封裝的全新EDT2 IGBT,該器件符合并超越了車(chē)規(guī)級(jí)半導(dǎo)體分立器件應(yīng)力測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)AECQ101,能大幅提升逆變器系統(tǒng)的性能和可靠性。


新推出的EDT2 IGBT包括AIKQ120N75CP2和AIKQ200N75CP2兩種型號(hào),現(xiàn)已開(kāi)始供貨。



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